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Cluster PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备

品  牌:沈阳科仪
咨询电话:024-23811701

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本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

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