产品描述
参数
产品参数
设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
扫二维码用手机看
下一个
ZJ型罗茨真空泵
中国真空网是中国科协所属的中国真空学会门户网站，提供真空泵、真空系统、真空测量、真空检漏、真空镀膜相关的学术研究报告、行业资讯、行业标准、工艺技术培训、厂家设备选型等真空行业前沿资讯。