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关于靶材结瘤的原因和应对

关于靶材结瘤的原因和应对

  • 分类:市场动态
  • 作者:霍廷格
  • 来源:霍廷格
  • 发布时间:2022-04-26
  • 访问量:

         在工业真空磁控溅射镀膜过程中,长期工艺稳定性是一项关键要求,其中一个问题是靶材表面形成所谓的“结瘤”。

 

        这是靶材表面持续受到Ar+轰击以及被溅射原子再沉积的多重作用而发生复杂的物理化学变化,靶材结瘤毒化后,靶材的溅射速率降低,打弧频率增加,膜层均一性变差,此时就必须停机清理靶材表面或更换靶材,这将严重降低沉积膜层的质量和生产效率。

影响靶材结瘤的原因很多,主要包括以下几个方面:
        ①靶材的本身材料:与靶材的元素分布均匀性、导电性、颗粒结构、密度或孔隙等有关。一般来说,靶材表面的大颗粒、孔隙处以及低导电性位置等,常是电弧发生且是结瘤严重区域。②阴极结构:如阴极磁场、靶材绑定等。③沉积过程中的腔室工艺环境:如反应溅射形成的靶面介质层,水汽等气体污染、灰尘,或者碎片等异常情况。

        可以注意到,在无外界控制手段介入的情况下,靶材结瘤的形成和电弧之间的相互作用似乎是相互促进。

 

        这种情况下,电源的作用就显得尤为重要,例如:①电源本身的输出稳定性;②降低电弧的产生率,可选择电源输出波形以及频率等进行优化;③快速的电弧处理能力以及有效的抑弧参数设定等。

 

        霍廷格电子致力于开发、制造用于各种沉积和干蚀刻工艺的等离子电源,如果您的工艺正受到结瘤等问题的困扰,请随时和我们联系,我们将为您提供最专业的产品和技术支持,为您的设备保驾护航!

 

(此文章为霍廷格原创文章,未经允许,禁止抄袭,禁止转载)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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