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MPCVD法制备纳米金刚石薄膜的研究及应用进展

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发表于 2019-2-18 10:58:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
MPCVD法制备纳米金刚石薄膜的研究及应用进展
何硕,汪建华,翁俊,刘繁
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
PROGRESS AND APPLICATIONS OF NANOCRYSTALLINE DIAMOND FILM BY MPCVD
HE Shuo,WANG Jian-hua,WENG Jun,LIU Fan
Provincial Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials,Wuhan Institute of Technology

摘要 通过介绍不同气源和相关工艺参数(温度、功率等)对MPCVD法制备纳米金刚石的影响,并对部分学者的研究成果进行简述。然后简要概括了MPCVD纳米金刚石在各种窗口、宽禁带半导体功率器件以及生物医学中的应用,最后对纳米金刚石未来的发展做出展望。

关键词 : 微波等离子体,  化学气相沉积,  纳米金刚石薄膜,  应用   

Abstract:This paper is mainly about the different gas source and related process parameters(like temperature,power,etc.)of MPCVD preparing nano-diamond,and gives a brief description of results of some scholars’researches. Then,this paper summarizes the applications of MPCVD nano-diamond in various windows,wide band gap semiconductor powerdevices and biomedical applications. Finally,we prospect the future development of nano-diamond.

Key words: microwave plasma           Chemical Vapor Deposition           nanocrystalline diamond thin film           development

基金资助:湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目(No. Q20151517),武汉工程大学科学研究基金项目(No. K201506)
作者简介: 何硕(1992-),女,武汉人,硕士研究生,从事微波等离子体技术沉积金刚石。
引用本文: 何硕,汪建华,翁俊,刘繁. MPCVD法制备纳米金刚石薄膜的研究及应用进展[J]. 真空与低温, 2016, 22(5): 254-.       
HE Shuo,WANG Jian-hua,WENG Jun,LIU Fan. PROGRESS AND APPLICATIONS OF NANOCRYSTALLINE DIAMOND FILM BY MPCVD. journal1, 2016, 22(5): 254-.


文章来源:《真空与低温》杂志2016年22卷5期

刊出日期:2016-10-28

链接地址:http://www.lipcast.cn:81/zkydw/CN/abstract/abstract85.shtml

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