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中国真空学会2016学术年会征文通知(第二轮)

中国真空学会2016学术年会征文通知(第二轮)

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  • 分类:学会动态
  • 作者:中国真空学会
  • 来源:
  • 发布时间:2016-02-25
  • 访问量:

会议官方网站:www.cvsnet.org.cn


        由中国真空学会主办、云南师范大学与北京大学承办的中国真空学会2016学术年会将于2016年8月12-14日在云南省昆明市举办。热切希望全体学会会员、理事及科研院所、企业同仁等踊跃投递论文。


        大会将设一个主会场和六个分会场。(六个分会场分别是:1、真空科技与工程;2、表面科学与应用;3、薄膜科学与技术;4、纳米科学与技术;5、电子材料与器件、等离子体技术;6、显示技术等)。学术交流将采取多种形式:大会特邀报告,分会邀请报告,分会口头报告,张贴报告,会间将评选“最佳张贴报告奖”。


        征文范围:


        1. 真空科技与工程(真空科学与技术、真空工程、真空冶金与表面工程、真空获得与测量、质谱分析与检漏)

        2. 表面科学与应用(表面科学与技术、应用表面科学与技术)

        3. 薄膜科学与技术(薄膜生长机理、制备技术和应用)

        4. 纳米科学与技术(纳米科学与技术、纳米生物与生物界面)

        5. 电子材料与器件、等离子体技术(电子材料与器件、真空微电子学、等离子体物理与技术)

        6. 显示技术(显示技术)


        一、征文要求


        1、本次学术会议欢迎与会者踊跃投稿,只需提交论文摘要(中、英文均可),网站上有摘要模版供下载编辑。

        2、本次会议的摘要投稿请通过会议官方网站进行,

              网址:http://www.cvsnet.org.cn,网站投稿开通时间为2016 年3月1日,参会者需要先在网站上注册,然后根据摘要模板编辑摘要格式,并依照网站上说明提交摘要。(详情见会议网站上的论文投稿流程说明)

        3、大会将出版论文摘要集,为统一摘要格式,请务必采用网站提供的摘要模板编辑。

        4、网上投稿时请务必填写报告人、所属的分会编号(大会邀请报告除外)、以及报告类型等信息。

        5、摘要是否被录用、以及报告的类型将在2016 年7 月份另行通知作者。

        6、对于口头报告,会议备有多媒体设备,请自备U 盘。

        

        张贴报告请自行打印,尺寸:90cm× 120cm。


        二、截稿日期


        1、摘要截稿日期:2016年6月20日前。

        2、摘要投稿过程中,如果遇到学术问题,请与所属分会的负责人联系。

        3、摘要投稿过程中,如果遇到技术问题,请与中国真空网负责人联系。


        中国真空网:马雯卿电话:021-62121126 转814

        会务组:中国真空学会办公室

        地址:北京市朝阳区建国路93 号万达广场9 号楼612 室

        邮编:100022

        电话:010-58208908/58208985 传真:58207735

        QQ1:2317369989

        QQ2:1563526075

        E-mail:cvs@chinesevacuum.com

                      zgzkxh@chinesevacuum.com


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